成都精密光刻機(jī)的主要用途和主要性能指標(biāo)：

1、 主要用途：

（1） 這是一臺(tái)雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī)；

（2） 這臺(tái)機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作；

（3） 同時(shí)又是一臺(tái)檢查雙面對(duì)準(zhǔn)精度的檢查儀。

2、 主要性能指標(biāo)：

（1） 高均勻性蠅眼曝光頭。

a、 采用350W直流球形汞燈；

b、 出射光斑≤φ116mm；

c、 光強(qiáng)≤15mw；

d、 光的不均勻性≤±3%；

e、 光強(qiáng)度可通過(guò)光闌或汞燈電流調(diào)節(jié)，3～15mw任意調(diào)節(jié)；

f、 曝光時(shí)間采用0～999.9秒（日本OMRON生產(chǎn)）時(shí)間繼電器控制。

g、 對(duì)準(zhǔn)精度：±0.5μm

h、 套刻精度：1μm

（2） 觀察系統(tǒng)為上下各兩個(gè)無(wú)級(jí)變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過(guò)視屏線連接計(jì)算機(jī)到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡；

b、 CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線尺寸為：1/3″,6mm；

c、 采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為17×25.4/6=72倍；

d、 觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×72=50.4倍（*小倍數(shù)）

4.5×72=324倍（*大倍數(shù)）；

e、右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)：向左為下二個(gè)CCD，向右為上二個(gè)CCD。

（3）計(jì)算機(jī)硬軟件系統(tǒng)：

a、鼠標(biāo)單擊“開(kāi)始對(duì)準(zhǔn)”，能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來(lái)，并處理成透明的，以便對(duì)新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)；

b、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形，就分別全屏顯示左或右面圖形。

（4）非常特殊的板架裝置：

a、該裝置能分別裝入100×100板架或125×125板架，對(duì)版進(jìn)行真空吸附；

b、該裝置安裝在機(jī)座上，能?chē)@A點(diǎn)作翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，相對(duì)于承片臺(tái)而言作上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，以便于上下版和上下片；

c、該裝置來(lái)回反復(fù)翻轉(zhuǎn)，回到承片臺(tái)上平面的位置，重復(fù)精度為≤±1.5μ；

d、該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能，**版下平面與片上平面之良好接觸，以便提高曝光質(zhì)量。

（5）承片臺(tái)調(diào)整裝置：

a、 配備有Φ75、Φ100承片臺(tái)各一個(gè)，這二種承片臺(tái)有二個(gè)長(zhǎng)方孔，下面二個(gè)CCD通過(guò)該孔能觀察到版或片的下平面；

b、 承片臺(tái)能作X、Y、Z、θ運(yùn)動(dòng)，X、Y、Z可作±5mm運(yùn)動(dòng)，θ運(yùn)動(dòng)為±5°；

c、 承片臺(tái)密著環(huán)相對(duì)于版，能實(shí)現(xiàn)“真空密著”：

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸；

真空密著力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸；

真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸；

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