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G-25XA型高精密單面光刻機(jī)

關(guān)于G-25XA型精密光刻機(jī)產(chǎn)品介紹:一、主要用途: 本設(shè)備是我公司專門針對(duì)各大專院校及科研單位對(duì)光刻機(jī)的使用特性研發(fā)的一種精密…

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G-25XA型高精密光刻機(jī)

產(chǎn)品介紹:

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司專門針對(duì)各大專院校及科研單位對(duì)光刻機(jī)的使用特性研發(fā)的一種精密光刻機(jī),它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

主要構(gòu)成
主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、GCQ350Z型**壓水銀直流汞燈曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺(tái)和附件箱等組成。

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多點(diǎn)光源(蠅眼)
可調(diào)光強(qiáng)的光欄

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三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu)
高精度X、Y、Z、Q調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
  適用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。
  2.結(jié)構(gòu)**
  具有氣浮式找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu);具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
  3.操作簡(jiǎn)便
  采用翻板方式取片、放片;按鈕、按鍵方式操作,可實(shí)現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能,操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡(jiǎn)便。
  4.可靠性高
  采用進(jìn)口(日本產(chǎn))電磁閥、按鈕、定時(shí)器;采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件,使本機(jī)運(yùn)行具有非常高的可靠性。
  5.特設(shè)功能
  除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外,還可以為用戶定制專用承片臺(tái),來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對(duì)準(zhǔn)的問題

主要技術(shù)指標(biāo)

1、設(shè)備能真空吸附5"×5"方形掩板,對(duì)版的厚度無特殊要求。

2、設(shè)備能適用于Φ100mm圓形基片(或100×100mm方形基片),基片厚度≤5mm,當(dāng)您的基片厚度≤1mm時(shí),我公司為本機(jī)配置標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)(不另計(jì)費(fèi)),當(dāng)基片厚度>1mm時(shí),設(shè)備需配置專用承片臺(tái)(訂貨時(shí)用戶須說明,費(fèi)用另議)。

3、照明:

光源:采用GCQ350Z型**壓水銀直流汞燈。

照明范圍:≤ф117mm曝光面積:Φ100mm

在Φ100mm范圍內(nèi),曝光不均勻性≤±3%,曝光強(qiáng)度:≥5mw/cm2(此指標(biāo)用紫外光源I線365nm測(cè)量)。

4、本設(shè)備采用進(jìn)口時(shí)間繼電器控制氣動(dòng)快門,動(dòng)作準(zhǔn)確、可靠。

5、本機(jī)為接觸式曝光機(jī),可實(shí)現(xiàn):

(1)硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPa。

(2)軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa~-0.05MPa之間。

(3)微力接觸曝光:小于軟接觸,真空≥-0.02MPa。

6.曝光分辯率:本設(shè)備硬接觸曝光的分辨度可達(dá)2μm以上。

7.對(duì)準(zhǔn):觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。



四川光刻機(jī)

成都鑫南光機(jī)械設(shè)備有限公司是一家專業(yè)從事四川真空泵,四川光刻機(jī),四川氫氣爐生產(chǎn)及銷售批發(fā)工作的企業(yè),咨詢電話:13908187709,028-85730519,擁有**的技術(shù)裝備和獨(dú)特的設(shè)計(jì),具有豐富的專用設(shè)備裝配調(diào)試技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)。


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