G-43B6型高精密單面光刻機(jī)

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進(jìn)行光刻，它特別適用做一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。加之光均勻性好（Φ150mm范圍內(nèi)≤±6%），所以大大提高了設(shè)備的光刻質(zhì)量

主要構(gòu)成
主要由防震工作臺、高均勻性曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特點(diǎn)

1. 適用范圍廣
適用于Φ150mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。

2. 結(jié)構(gòu)**
本設(shè)備配置有可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。

3. 操作簡便
本設(shè)備操作簡單，調(diào)試、維護(hù)、修理等都非常簡便。

4. 設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定、可靠
采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。

5. 特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題

主要技術(shù)參數(shù)：

1、操作方式：手動(dòng)；

2、曝光模式：接觸式曝光；

3、出射光斑≤φ150mm；

4、紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5、光強(qiáng)≥5mw/cm2（i線365nm; h線405nm; g線453nm的組合紫外光）；

6、曝光分辨率：3um；

7、曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈。