G-43B9型高精密光刻機(jī)

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品，其*大特點(diǎn)是曝光面積極大，通常情況下為：Φ9"，對(duì)被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對(duì)多種材料的基片進(jìn)行光刻，它特別適用一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，按用戶要求可提供圓形承片臺(tái)或方形承片臺(tái)，不管哪一種承片臺(tái)都能實(shí)現(xiàn)“真空密著”曝光，加之光均勻性好（Φ200mm范圍內(nèi)≤±6%），所以大大提高光刻質(zhì)量，我公司還可根據(jù)用戶要求，在G-43B9型光刻機(jī)外加裝對(duì)準(zhǔn)設(shè)置，以進(jìn)行版對(duì)片的精密對(duì)準(zhǔn)曝光。

主要構(gòu)成
主要由防震工作臺(tái)、高均勻性曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
適用于Φ200mm以下、厚度：5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次光刻。
2.結(jié)構(gòu)**
本設(shè)備配置有可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；配置有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡(jiǎn)便
本設(shè)備操作簡(jiǎn)單，調(diào)試、維護(hù)、修理等都非常簡(jiǎn)便。
4.設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定、可靠
采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。
5.特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外，還可以為用戶定制專用承片臺(tái)，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對(duì)準(zhǔn)的問題

主要技術(shù)參數(shù)：

1、曝光面積Φ9"。

2、曝光*小分辨率為3μm。

3、可以為用戶制作具有預(yù)定位機(jī)構(gòu)的專用承片臺(tái)，片對(duì)版的預(yù)定位精度≤±0.1mm。

4、曝光頭用燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈，光強(qiáng)≤3.5mw/cm2，光的不均勻性在：Φ200mm范圍內(nèi)≤±6%。